制藥工業(yè)：雖然并不要求很高的去離子程度，但電去離子系統(tǒng)具有同時(shí)去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點(diǎn)，因此醫(yī)藥用設(shè)備采用RO+EDI集成系統(tǒng)。系統(tǒng)性能穩(wěn)定，全流程計(jì)算機(jī)連續(xù)監(jiān)控，全自動(dòng)操作無人值守。

電子工業(yè)：其對(duì)水質(zhì)的要求極高，產(chǎn)水電阻率一般要求大于18MΩ.cm，而EDI出水一般在15-17MΩ.cm左右，因此在電子級(jí)超純水的生產(chǎn)過程多采用EDI+拋光樹脂系統(tǒng)，即在EDI之后加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由于EDI已除去了大部分離子，拋光樹脂幾乎不用再生，因此水處理費(fèi)用仍然很低。

電鍍與金屬表面處理：可以使電鍍廢水重復(fù)使用并回收重金屬離子，有利于降低生產(chǎn)用水，安全環(huán)保。純水設(shè)備，實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備，濟(jì)南水處理設(shè)備，濟(jì)南去離子水設(shè)備。 濟(jì)南純水設(shè)備，醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。半導(dǎo)體純水設(shè)備。